Патент №2008741 - Реактор для плазменного осаждения

Использование: изобретение относится к плазменной технике и может быть использовано для плазменного осаждения материалов в микроэлектронике. Сущность изобретения: редактор содержит корпус в виде трубы, на одном конце которого размещен патрубок для откачки реактора, а на другом - герметизирующая крышка. ВЧ-электроды размещены с внешней стороны корпуса, экранирующий элемент в виде диска из осаждаемого материала размещен внутри корпуса перед патрубком для откачки реактора. 1 ил. , 2 табл.

Патент №2008741, изображение 1
Патент №2008741, изображение 2
Патент №2008741, изображение 3

Классификация патента

Код Наименование
МПК H01L 21/00Способы и устройства, специально предназначенные для изготовления или обработки полупроводниковых приборов или приборов на твердом теле или их частей