Патент №2011431 - Устройство для формирования поли-n-ксилиленовых покрытий

Использование: изобретение относится к области нанесения тонких полимерных покрытий, в частности к устройствам для формирования тонких поли-n-ксиленовых покрытий в газовой фазе из циклоди-n-ксилилена /ПДПК/ и может быть использовано в микроэлектронике и биологии для снижения энергопотребления, уменьшения размеров и тепловой инерционности реактора, а также повышения равнотолщинности покрытия на поверхностях сложной конфигурации. Сущность изобретения: нагреватель реактора выполнен в виде 2 . . . 4 витков металлической ленты, навитой на наружную поверхность реактора. При этом нагреватель одновременно служит индуктором, для чего он подключен к источникам высокой и низкой частоты, через развязывающие фильтры. Внутри реактора установлен источник электронов. Кроме того, с целью оперативного безинерционного регулирования скорости сублимации ПДПК в зоне сублимации может быть установлен наружный или внутренний электрод, соединенный с регулятором напряжения. 1 з. п. ф-лы, 1 ил.