Патент №2037560 - Способ формирования на подложке профильного слоя твердого конденсата из многоатомных частиц

Использование: в машиностроении для изготовления деталей машин сложнопрофильной конфигурации, а также в радиоэлектронике преимущественно для изготовления плат сухим методом и микросхем. Сущность изобретения: в технологической зоне осуществляют ускорение частиц, формирующих слой твердого конденсата, до заданной скорости. Перед осаждением частиц на подложку жесткость отдельных участков ее поверхности изменяют, а в процессе осаждения поддерживают в измененном состоянии. Возможно одновременное изменение жесткости слоя наносимого твердого конденсата. Раскрываются наиболее оптимальные с точки зрения технологии методы изменения жесткости на соответствующих участках подложки и слоя конденсата. Описанный выше способ позволяет повысить качество наносимых на подложку профильных покрытий заданной толщины и в значительной степени расширяет область применения вследствие обеспечения высокой точности параметров слоя конденсата как по толщине, так и по конфигурации. 9 з.п. ф-лы.