Патент №2058423 - Вакуумно-дуговое устройство

Использование: для нанесения покрытий высокого качества в производстве электронных приборов, машиностроении, товаров народного потребления. Сущность вакуумно-дуговое устройство содержит аттенюатор, расположенный в его рабочем объеме на пути потока между испарителем и подложкодержателем. Аттенюатор состоит из набора плоско-параллельных пластин, плоскости которых параллельны оси устройства. Геометрические размеры аттенюатора с коэффициентом ослабления плазменного потока связаны следующим образом: L/H = Vпп/Vis[ln] , где l - ширина пластин аттенюатора; h - расстояние между пластинами; Vпп - скорость плазменного потока; Vis - скорость ионного звука; - коэффициент прозрачности аттенюатора. 2 ил., 1 табл.

Патент №2058423, изображение 1
Патент №2058423, изображение 2
Патент №2058423, изображение 3

Классификация патента

Код Наименование
МПК C23C 14/00Покрытие вакуумным испарением, распылением металлов или ионным внедрением материала, образующего покрытие