Патент №2058428 - Устройство для нанесения покрытий в вакууме

Изобретение относится к плазменной технике и вакуумной технологии нанесения покрытий и направлено на расширение технологических возможностей устройства и улучшение качества наносимых покрытий. Сущность: в устройстве для нанесения покрытий в вакууме, содержащем расположенный в вакуумной камере катод-мишень, анод, магнитную систему, магнитная система выполнена не менее чем из двух элементов. В теле катода между элементами магнитной системы выполнен ряд отверстий, соединенных с полостью, ограниченной металлическими стенками. Внутри полости установлен дополнительный электрод, изолированный от катода. В стенке полости имеется отверстие для подачи плазмообразующего газа. С целью увеличения производительности элементы магнитной системы обращены к полости одноименными полюсами. 1 ил.

Патент №2058428, изображение 1

Классификация патента

Код Наименование
МПК C23C 14/00Покрытие вакуумным испарением, распылением металлов или ионным внедрением материала, образующего покрытие