Патент №2059984 - Устройство для совмещения и экспонирования

Изобретение относится к производству интегральных микросхем и полупроводниковых приборов, а именно к технологии ренгенолитографии, может быть использовано в установках для совмещения рисунка на маске с рисунком на подложке и экспонирования. Цель изобретения - повышение точности совмещения рисунков топологических слоев на подложке за счет снижения разброса величины рабочего микрозазора, вызванного клиновидностью подложкодержателя и подложки. Сущность изобретения: в механизме поступательного перемещения жесткое взвешивание платформы в одной из кареток выполнено на упругих металлических стержнях, расположенных в одной плоскости, параллельной рабочей поверхности подложки, что в свою очередь позволяет увеличить число степеней свободы обрабатываемого объекта. 1 з. п. ф-лы, 3 ил.