Патент №2073933 - Реактор для обработки подложек в плазме свч-тлеющего разряда

Использование: микроэлектроника, планарная технология интегральных схем. Сущность изобретения: реактор для обработки подложек в плазме СВЧ тлеющего разряда представляет собой вакуумную камеру, в которой помещены полый резонатор, рабочий столик, узлы подвода энергии, подачи реагентов и откачки продуктов реакции. В резонаторе от места ввода энергии в него на расстоянии, кратном полуволне, размещены два выступа, один из которых содержит полость с размещенным в ней рабочим столиком, а второй, противолежащий, имеет фасонную выемку. 1 ил.