Патент №2082884 - Способ возведения станции метрополитена глубокого заложения
Изобретение относится к подземному строительству, преимущественно к строительству станций метрополитена глубокого заложения. Способ возведения станции метрополитена глубокого заложения включает предварительную проходку штолен с выполнением в них опор для сводов среднего тоннеля, проходку боковых и среднего тоннелей вначале от шелыг до обреза установленных опор, монтаж обделок тоннелей с опиранием обделки среднего тоннеля на опоры и обделок боковых тоннелей на опоры и на грунт, а затем последующую разработку грунта до подошвы опор с возведением лотковой части станции. Отличие состоит в том, что опоры в штольнях выполняют в виде колонн с прогонами и опорными элементами и устанавливают их враспор по вертикали с раскреплением их инвентарными распорками, после чего проходят вначале средний тоннель, а затем боковые с монтажом обделок из имеющих внутреннюю полость блоков, нагнетают цементный раствор за их внешнюю поверхность бетонируют внутреннюю полость блоков заходками, равными шагу колонн, а лотковую часть среднего тоннеля выполняют в виде монолитной плиты с образованием ею совместно со сводами и колоннами с прогонами жесткой конструкции, а после монтажа обделок боковых тоннелей возводят их лотковые части в виде обратных сводов. 2 ил.
Классификация патента
Код | Наименование |
---|---|
МПК E02D 29/00 | Подземные и подводные сооружения; подпорные стенки |
МПК E21D 13/00 | Подземные камеры большого объема; способы и устройства для их проходки |