Патент №2110079 - Способ наведения излучения на объект

Использование: в лазерной локации, в частности, в лазерных системах связи. Сущность: в способе наведения излучения на объект, заключающемся в формировании изображения объекта, определении его угловых координат формировании вспомогательного лазерного излучения, определении координат его энергетического центра и отработке направления рабочего лазерного излучения пропорционально в момент времени t1 осуществляют подсвет объекта первым импульсом зондирующего лазерного излучения и определяют дальность R до объекта, изображение объекта формируют посредством подсвета в момент времени t2 больше t1 вторым импульсом зондирующего лазерного излучения, а вспомогательное лазерное излучение формируют в момент времени tв, t2 меньше tв, меньше 2R/C, где C - скорость света, а формирование рабочего лазерного излучения осуществляют с временной задержкой относительно момента времени tв, меньшей времени замороженности атмосферы. 1 ил.

Патент №2110079, изображение 1

Классификация патента

Код Наименование
МПК G01S 17/00Системы с использованием отражения или вторичного излучения электромагнитных волн, иных чем радиоволны