Патент №2110606 - Устройство для формирования поверхностных слоев на изделиях методом обработки в плазме газового разряда

Изобретение относится к ионно-плазменным технологиям создания защитных, оптических декоративных и иных слоев на поверхности изделий из металла, стекла, керамики. Оно может быть использовано при изготовлении гелиопоглощающих устройств, медицинских, промышленных, бытовых и т.п. изделий и устройств. Техническим результатом данного изобретения является расширение функциональных возможностей устройства, создание условий для реализации в одном устройстве различных типов ионно-плазменной обработки, эффективное использование материала покрытия, повышение экономичности устройства, возможность обработки большого числа длинномерных изделий, длина которых примерно совпадает с длиной занятой плазмой области. Устройство содержит вакуумную камеру, источники рабочего и реакционного газов, круговые пластины, установленные в ней соосно друг с другом и электрически изолированные, источник напыляемого материала в виде цилиндрической мишени, установленной между пластинами соосно с ними, термоэмиссионный катод, выполненный составным из нескольких модулей, закрепленных по окружности на пластинах, кольцевой анод, установленный между пластинами, держатель изделий, выполненный в виде двух электрически изолированных колец, каждое из которых прикреплено к одной из круговых пластин соосно с ними. По окружности колец расположены узлы фиксации изделий, к которым по образующей цилиндра крепят изделия для обработки. В устройстве можно проводить напыление одно- или многоэлементных покрытий из материала мишени и его соединений, напыление, асистированное ионной или электронной бомбардировкой, распыление поверхности изделий с активизацией поверхности напыляемыми атомами мишени. Для равномерной обработки изделия в процессе работы поворачиваются вокруг своей оси специальным механизмом вращения. 9 з.п.ф-лы, 2 ил.

Патент №2110606, изображение 1
Патент №2110606, изображение 2

Классификация патента

Код Наименование
МПК C23C 14/00Покрытие вакуумным испарением, распылением металлов или ионным внедрением материала, образующего покрытие