Патент №2211882 - Геттерная система для очистки газовой рабочей атмосферы в процессах физического осаждения из паровой фазы

Изобретение относится к геттерной системе для очистки газовой рабочей атмосферы в процессах физического осаждения из паровой фазы. Сущность: система образована из одного или более геттерных устройств в виде спеченных тел из порошков геттерного материала или слоев геттерного материала, осажденных на металлическую подложку, которая должна быть размещена в рабочей зоне технологических камер для осаждения тонких слоев металлических или керамических материалов из паров или плазм для очистки газовой атмосферы, находящейся в этой зоне, при этом геттерные устройства расположены параллельно экранам, ограничивающим рабочую зону, с образованием зазора между ними и экранами, сообщенного с рабочей зоной, и поверхность геттерных устройств, обращенная к экранам, выполнена из геттерного материала. Изобретение обеспечивает эффективную очистку рабочей атмосферы в течение процесса PVD. 23 з.п.ф-лы, 7 ил.

Патент №2211882, изображение 1
Патент №2211882, изображение 2
Патент №2211882, изображение 3

Классификация патента

Код Наименование
МПК C23C 14/00Покрытие вакуумным испарением, распылением металлов или ионным внедрением материала, образующего покрытие
МПК F04B 37/00Насосы и компрессоры, не отнесенные к группам 25/00