Патент №2231935 - Устройство для получения высокотемпературной плазмы

Применение: техника высокотемпературной плазмы, может быть использовано при разработке мощных источников рентгеновского излучения. Устройство содержит два расположенных соосно и разнесенных вдоль оси кольцевых электрода, подключенные к импульсному источнику питания, а также элементы инициирования плазмы, имеющие электрический контакт с электродами и установленные между ними. Кроме того, устройство содержит изоляторы, число которых равно числу элементов инициирования плазмы и одна из сторон которых выполнена в виде участка цилиндрической поверхности. Изоляторы установлены между электродами так, что образующая цилиндрической поверхности параллельна оси устройства, касательная к направляющей цилиндрической поверхности в ближайшей к оси точке не пересекает ось устройства. Изоляторы ориентированы одинаково относительно оси, а каждый элемент инициирования плазмы размещен со стороны цилиндрической поверхности своего изолятора. Элементы инициирования плазмы выполнены в виде проволочек либо в виде пар острых выступов на электродах. Технический результат: уменьшение вероятности развития различных неустойчивостей пинча в устройстве для получения высокотемпературной плазмы, за счет чего повышается надежность и повторяемость его работы. 2 з.п. ф-лы, 3 ил.