Патент №2341587 - Способ нанесения покрытия методом осаждения при магнетронном распылении в вакууме
Изобретение относится к способам нанесения покрытия на подложку магнетронным распылением и может найти применение в автомобилестроении, изготовлении бытовой техники и других отраслях промышленности. Зона устройства для нанесения покрытий состоит из, по меньшей мере, двух отсеков, первый из которых содержит первую мишень, а второй - вторую мишень. В первом отсеке наносят слой покрытия в режиме металла, заключающемся в том, что используют первую мишень и наносят слой металла в атмосфере не вступающего в реакцию газа. Во втором отсеке наносят слой в переходном режиме, заключающемся в том, что используют вторую мишень и наносят слой окисла материала мишени в атмосфере не вступающего в реакцию газа и химически активного газа со скоростью, меньшей, чем скорость нанесения слоя покрытия в режиме металла, или наносят слой в режиме окисла, заключающемся в том, что используют вторую мишень и наносят слой окисла материала мишени в атмосфере не вступающего в реакцию газа и химически активного газа со скоростью, меньшей, чем скорость нанесения слоя покрытия в переходном режиме. Слой покрытия в переходном режиме или режиме окисла наносят второй мишенью из материала с величиной свободной энергии Гиббса G, равной или меньшей, чем - 160 ккал/моль О 2, или используют для второй мишени при нанесении слоев в переходном режиме и режиме окисла материал с разностью между его G и G материала первой мишени, используемой при нанесении покрытия в режиме металла, по меньшей мере, 60 ккал/моль O 2. Технология позволяет уменьшить общее количество зон, требуемых для нанесения покрытий. 3 н. и 14 з.п. ф-лы, 1 табл.
Классификация патента
Код | Наименование |
---|---|
МПК C23C 14/35 | Покрытие вакуумным испарением, распылением металлов или ионным внедрением материала, образующего покрытие - с использованием магнитного поля, например распыление магнетроном |