Патент №2411304 - Устройство для вакуумного напыления пленок

Изобретение относится к технике получения пленок в вакууме, в частности к устройству для вакуумного напыления пленок, и может быть использовано для эпитаксиального выращивания слоев при изготовлении полупроводниковых приборов, устройств интегральной оптики, при нанесении функциональных покрытий из металлов и кремния и т.п. Устройство содержит расположенные в вакуумной камере (1) подложкодержатель (2) и резистивный испаритель (3) напыляемого материала, подключенные к источнику тока токовводами (4), которые соединены между собой изолятором и расположены внутри герметично укрепленного в стенке камеры сильфона (7). Токовводы (4) соединены с приводом для обеспечения качательного движения испарителя напыляемого материала. Устройство позволяет повысить однородность толщины напыляемых слоев и обеспечивает возможность выращивания однородных эпитаксиальных слоев на подложке большой площади. 4 з.п. ф-лы, 1 ил.