Патент №2451766 - Способ изготовления биаксиально текстурированной подложки из бинарного сплава на основе никеля для эпитаксиального нанесения на нее буферного и высокотемпературного сверхпроводящего слоев для ленточных сверхпроводников

Изобретение относится к области металлургии, в частности к способам получения биаксиально текстурированных подложек. Заявлен способ изготовления биаксиально текстурированной подложки из бинарного сплава на основе никеля для эпитаксиального нанесения на нее буферного и высокотемпературного сверхпроводящего слоев для ленточных сверхпроводников. Способ включает выплавку, ковку, холодную прокатку до степени деформации 97% и рекристаллизационный отжиг при температуре 1000°С. В качестве бинарного сплава на основе никеля используют сплав рений 7 ат.%, никель - остальное. Технический результат - получение высокой степени текстурированности и прочности, а также высокой химической стойкости ленты. 4 ил., 2 табл., 1 пр.