Патент №2453874 - Способ формирования плоской гладкой поверхности твердотельного материала

Изобретение относится к технологии микро- и оптоэлектроники. Сущность изобретения: в способе формирования плоской гладкой поверхности твердотельного материала на подложке твердотельного материала формируют лунку, с участками поверхности, отклоненными в диаметрально противоположных направлениях, обеспечивающими противоположную направленность фронтов атомных ступеней. Проводят термоэлектрический отжиг, пропуская электрический ток величиной, вызывающей резистивный нагрев материала подложки до температуры активируемой сублимации атомов верхнего атомного слоя с передвижением по поверхности моноатомных ступеней. При отжиге очищают рабочую поверхность от естественного окисла, загрязнений. Затем проводят основной этап или основной и дополнительный этапы термоэлектрического отжига в вакууме с уровнем 10-8 Па. Ток пропускают параллельно рабочей поверхности подложки, в течение промежутка времени и при температурном режиме, формирующими по периферии внутренней части лунки скопление моноатомных ступеней с высокой плотностью, с появлением равномерно распределенных по периферии внутренней части лунки одиночных концентрических моноатомных ступеней, разделенных сингулярной террасой. Подачу электрического тока прекращают и снижают температуру подложки. В результате обеспечивается получение атомно-гладких поверхностей, снижение шероховатости до 0,4 ангстрема, управление размером плоской гладкой поверхности, ее увеличение в поперечнике до значения от 100 до 300 мкм. 8 з.п. ф-лы, 3 ил.

Патент №2453874, изображение 1
Патент №2453874, изображение 2
Патент №2453874, изображение 3

Классификация патента

Код Наименование
МПК B82B 3/00Изготовление или обработка наноструктур
МПК G02B 1/12Оптические элементы, отличающиеся по материалу - поверхностной обработкой, например облучением