Патент №2470257 - Способ определения толщины однородного нанослоя в инфракрасном излучении

Способ включает нанесение слоя на подложку, способную направлять поверхностную электромагнитную волну (ПЭВ), воздействие зондирующим излучением на подложку, преобразование излучения в ПЭВ, регистрацию изменений ПЭВ в результате пробега ей макроскопического расстояния х, расчет толщины слоя по результатам измерений и значениям оптических постоянных вещества слоя и материала подложки. ПЭВ преобразуют в объемную волну, совмещают пучок зондирующего излучения и объемную волну, регистрируют результирующую интенсивность интерферирующих волн до и после пробега ПЭВ расстояния х и рассчитывают толщину нанослоя с учетом приращения фазы ПЭВ на расстоянии х. Технический результат изобретения заключается в повышении точности определения толщины однородного нанослоя в ИК-излучении. 2 ил.

Патент №2470257, изображение 1
Патент №2470257, изображение 2
Патент №2470257, изображение 3

Классификация патента

Код Наименование
МПК B82Y 35/00Способы или устройства для измерения или анализа нано-структур
МПК G01B 11/06Приспособления к измерительным устройствам, отличающиеся оптическими средствами измерения - для измерения толщины
МПК G01B 9/02Устройства, отличающиеся оптическими средствами измерения - интерферометры