Патент №2484512 - Безметальный проявитель позитивного фоторезиста

Настоящее изобретение относится к фотолитографическому процессу формирования рельефных покрытий на функциональных поверхностях подложек для интегральных схем с помощью фоторезиста и, в частности, к безметальному проявителю позитивного фоторезиста. Безметальный проявитель позитивного фоторезиста содержит 1,0-5,0% водный раствор тетраметиламмония гидроксида или триметил(2-гидроксиэтил) аммоний гидроксида и фторсодержащее поверхностно-активное вещество, при рН раствора не менее 11. В качестве ПАВ используют соединения формулы: RfZQA, где при n=3; m=1-3;Z=SO2; Концентрация данного ПАВ в растворе от 10 до 100 ppm. Техническим результатом настоящего изобретения является создание безметального проявителя для позитивного фоторезиста на основе водного раствора органических щелочей и фторорганического ПАВ, улучшающего качество проявления топологической структуры и однородность воспроизведения топологических размеров. 1 з.п. ф-лы, 1 табл., 3 ил.

Патент №2484512, изображение 1
Патент №2484512, изображение 2
Патент №2484512, изображение 3

Классификация патента

Код Наименование
МПК C23C 22/00Химическая поверхностная обработка металлического материала путем взаимодействия поверхности с реакционной жидкостью, причем продукты реакции остаются в покрытии, например конверсионные покрытия, пассивирование металлов
МПК G03F 7/26Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей - обработка светочувствительных материалов; устройства для этой цели 7/12