Патент №2507304 - Испаритель для вакуумного нанесения тонких пленок металлов и полупроводников

Изобретение относится к технологии нанесения тонких пленок, а именно к испарителям, и может быть использовано для напыления пленок из драгоценных металлов и сплавов. Технический результат - повышение гравитационной стабильности расплава, уменьшение разбрызгивания, увеличение эффективной поверхности смачивания, улучшение диаграммы направленности и уменьшение неконтролируемого угла разлета напыляемых материалов. Испаритель выполнен из углеродного материала с выемкой для размещения напыляемого материала в виде канавки, расположенной нормально вектору напряженности гравитационного поля и имеющей в поперечном сечении вид трапеции. Нижнее по отношению к гравитационному полю основание трапеции меньше верхнего. При этом в канавке размещена вставка в виде объемного элемента из W или Мо или Та. 1 з.п. ф-лы, 2 ил.

Патент №2507304, изображение 1
Патент №2507304, изображение 2

Классификация патента

Код Наименование
МПК C23C 14/24Покрытие вакуумным испарением, распылением металлов или ионным внедрением материала, образующего покрытие - вакуумное испарение