Патент №2509390 - Устройство для нанесения фоторезиста методом центрифугирования
Изобретение относится к оборудованию для электронной промышленности, а именно к оборудованию для нанесения фоторезиста на подложки методом центрифугирования. Технический результат - уменьшение времени изготовления и увеличение выхода годных изделий - достигается тем, что устройство для нанесения фоторезиста содержит защитный корпус с крышкой, держатель подложек, гайки, вал центрифуги. Защитный корпус закреплен на валу центрифуги. Держатель подложек установлен на вал центрифуги и закреплен гайками. Держатель подложек содержит основание, крышку, ограничительные штифты и заливочные отверстия. На внутренних поверхностях основания и крышки держателя выполнены сквозные пазы со ступенчатой боковой поверхностью для установки подложек. На периферийных частях держателя подложек установлены ограничительные штифты. В крышке держателя подложек выполнены дозировочные отверстия. 1 з.п. ф-лы, 3 ил.
Классификация патента
| Код | Наименование |
|---|---|
| МПК G03F 7/16 | Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей - процессы нанесения покрытий; устройства для этих целейнанесение покрытий на основной материал вообще B 05; нанесение светочувствительных составов на подложку для фотографических целей G 03C 1/74 |
| МПК H01L 21/312 | Способы и устройства, специально предназначенные для изготовления или обработки полупроводниковых приборов или приборов на твердом теле или их частей - из органических веществ, например слоев фоторезиста 21/3105, 21/32 имеют преимущество |
| МПК H05K 3/00 | Способы и устройства для изготовления печатных схем |