Патенты Институт ядерной физики им.Г.И.Будкера СО РАН
Страна - Россия (RU), количество патентов - 17, получены - 1994-2011 , коллектив авторов - 48 человек.
- B01 – Способы и устройства общего назначения для осуществления различных физических и химических процессов
- C04 – Цементы; бетон; искусственные камни; керамика; огнеупоры
- C23 – Покрытие металлических материалов; покрытие других материалов металлическим материалом; химическая обработка поверхности; диффузионная обработка металлического материала; способы покрытия вакуумным испарением, распылением, ионным внедрением или химическим осаждением паров вообще; способы предотвращения коррозии металлического материала, образования накипи или корок вообще
- G01 – Измерение
- G03 – Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
- G12 – Конструктивные элементы приборов
- G21 – Ядерная физика, ядерная техника
- H01 – Основные элементы электрического оборудования
- H05 – Специальные области электротехники, не отнесенные к другим классам
| № | Автор | Патенты |
|---|---|---|
| 1 | Кондратьев В.И. | 6 |
| 2 | Генцелев Александр Николаевич | 5 |
| 3 | Зелинский Александр Георгиевич | 3 |
| 4 | Гольденберг Борис Григорьевич | 2 |
| 5 | Колмогоров В.В. | 1 |
| 6 | Голубев В.Б. | 1 |
| 7 | Петрова Екатерина Владимировна | 1 |
| 8 | Гуляева Людмила Фёдоровна | 1 |
| 9 | Брязгин Александр Альбертович | 1 |
| 10 | Барняков Алексей Михайлович | 1 |
- Металлическая сеточная структура и способ ее изготовления
Изобретение может быть использовано для фильтрации электромагнитного излучения. Предлагаемая конструкция самоподдерживающейся металлической сеточной структуры (МСС) представляет собой тонкую перфорированную металлическую пленку, гальванически...
- Рентгенолучевой генератор изображения
Изобретение относится к рентгенолитографии, а именно к устройству "рисования" топологических рисунков, пространственно сформированным пучком экспонирующего рентгеновского излучения. С целью повышения точности формирования топологии резистивной маски...
- Литографическая маска для liga-технологии и способ ее изготовления
Использование: для изготовления литографической маски. Сущность: формируют на рабочей поверхности несущей мембраны топологический рентгенопоглощающий рисунок, при этом идентичный топологический рентгенопоглощающий рисунок из того же материала (или...
- Способ изготовления вакуумно-плотных металлокерамических многоштырьковых ножек
Изобретение относится к радиоэлектронике, а именно к изготовлению многоштырьковых вакуумно-плотных металлокерамических ножек для электровакуумных приборов различного назначения. В способе изготовления вакуумно-плотных металлокерамических ножек...
- Способ разделения изотопов
Изобретение предназначено для электрофизики и может быть использовано для разделения тяжелых изотопов. Источник 1 соединен через выпускной канал 3 с системой ионно-циклотронного резонансного нагрева и сбора. Источник ионов 1 создает узкий плазменный...
- Амплитудный дискриминатор с двойным порогом
Изобретение относится к области электронных схем. Функциональная схема предлагаемого амплитудного дискриминатора с двойным порогом (ДДП) приведена на фиг. 1. Существенными признаками данного изобретения являются использование: 1) двух входных...
- Устройство выпуска пучка электронов в атмосферу
Устройство для выпуска пучка электронов в атмосферу содержит корпус 2, отклоняющий электромагнит 1, вентилятор 10, кольцевое выпускное окно. Выпускное окно делится перемычками на автономно уплотняемые части. Перед каждой перемычкой в корпусе установлен...