Патент №2007209 - Установка для очистки газа

Изобретение относится к установкам для очистки газа и может быть использовано в газовой промышленности для очистки. Природный газ с примесями H2S и CO2 поступает в сепаратор 1, где отделяется жидкость, и направляется в абсорбер 2, где очищается от H2S и CO2 водными растворами моноэтаноламина /или диэтаноламина/. Очищенный газ направляется потребителю. Из насыщенного раствора амина удаляются газы в выветривателе 3, после чего через рекуперативный теплообменник 4 он подается в десорбер 5, где происходит регенерация амина за счет его нагрева в испарителе 10. Регенерированный раствор амина из десорбера 5 поступает в буферную емкость 6, рекуперативный теплообменник 4, воздушный холодильник 9, водяной теплообменник 8, насос 7 и жидкостно-газовый струйный аппарат /ЖГСА/ 15. Также в ЖГСА поступают низкопотенциальный газ из выветривателя 3, образовавшаяся двухфазная смесь идет в абсорбер 2. Кислые газы и пары воды из десорбера 5 через воздушный теплообменник 14 и водяной холодильник 13 поступают в емкость 12, откуда кислые газы отводятся на печь Клауса, а жидкость насосом 11 подается в десорбер 5. 1 ил.