Патент №2008115 - Способ поштучного профилирования полукруглых гофр на листе

Изобретение относится к обработке металлов давлением, в частности к поштучному производству гофрированных гнутых профилей. Цель изобретения - увеличение производительности при сохранении уровня качества профилей с полукруглыми гофрами. Способ заключается в пропускании листовой заготовки между валками, одновременно двух-трех листов при величине вертикального межвалкового зазора, приведенной в формуле. При установке зазора в валках по предложенной зависимости все гофрированные профили по своим размерам соответствуют требованиям ТУ. Качество поверхности соответствует П группе отделки.

Классификация патента

Код Наименование
МПК B21D 5/00Гибка листового металла вдоль прямых линий, например для образования простых изгибов