Патент №2008655 - Способ элементного анализа поверхностного монослоя материала

Использование: в области анализа материалов с помощью облучения образца пучком частиц. Сущность изобретения: образец облучают частицами с выбранным значением атомного номера, энергией соударения E и регистрируют частицы, рассеянные под определенным углом в том числе и многократно ионизованные частицы: выбор параметров облучения и регистрации производится из условия образования внутренней вакансии в рассеянной частице, что позволяет контролировать выход заряженной компоненты, значительно повысив его: за счет еще большего сужения условий облучения и регистрации, а также регистрации многократно ионизованных частиц можно реализовать селективную чувствительность метода к атомам определенного сорта. 6 з. п. ф-лы, 3 ил. , 1 табл.