Патент №2009213 - Устройство для обработки в электролитной плазме
Изобретение относится к установкам для плазменно-электролитной термохимической обработки. Устройство обработки в электролитной плазме содержит ванну 2 с электролитом и размещенный в ней тест-электрод, источник питания (П), магнитопровод с установленной на нем катушкой 6 индуктивности, подключенной через сопротивление 8 к блоку П. Сопротивление соединено через регистрирующий прибор и обратную связь с источником П, а магнитопровод магнитно замкнут на тест-электрод через подвижный ферромагнитный стержень. 1 ил.
Классификация патента
Код | Наименование |
---|---|
МПК C21D 1/00 | Общие способы или устройства для термообработки, например отжига, закалки, отпуска |