Патент №2009214 - Устройство для электролитно-плазменной обработки
Изобретение относится к установкам для электролитно-плазменной очистки поверхности. Устройство содержит камеру с расположенными перпендикулярно продольной оси камеры и выполненными торцовыми стенками с отверстиями (О) для входа и выхода изделия, напорным патрубком и О для слива электролита, завихритель в виде двух керамических элементов (Э) в форме конусных стаканов с осевыми О в донных частях (ДЧ) и с тангенциальными прорезями по периферии их боковых стенок для вывода электролита. Один из Э выполнен с каналами в его ДЧ, расположенными тангенциально к осевому О, при этом Э установлены соосно О торцовых стенок и обращены ДЧ друг к другу. 2 ил.
Классификация патента
Код | Наименование |
---|---|
МПК C21D 1/00 | Общие способы или устройства для термообработки, например отжига, закалки, отпуска |