Патент №2009572 - Способ контроля процесса термообработки фоторезиста

Назначение: изобретение относится к электронной технике, в частности к способам контроля технологических процессов в производстве гибридных интегральных схем и печатных плат, и может быть использовано на операциях контроля отверждения. Сущность изобретения: регистрируют зависимость изменения диэлектрической постоянной от времени термообработки. Об окончании процесса судят по достижении диэлектрической проницаемости постоянного значения. 1 ил, 2 таб.