Патент №2021395 - Способ изготовления матриц для гальванопластического формирования изделий с рельефной поверхностью

Использование: изобретение относится к способам получения плоских изделий в технологии электронной техники, имеющих сложную структуру, методом гальванопластики. Сущность изобретения: на металлическое основание последовательно наносят два слоя фотополимеризующихся композиций следующего состава, мас. ч. (в порядке очередности): сополимер бутилметакрилат-(БМА)-метакриловая кислота (МАК), содерж.23%(МАК) 1,00, олигоэфиракрилат (ОЭА) ТГМ-3 0,6-0,8, фенантренхинон 0,015-0,025, краситель фиолетовый кристаллический 0,008-0,012, и сополимер БМА-МАК, содержащий 23% МАК 1,00, ОЭА ТКМ-3 1,0-1,2, изо-бутиловый эфир бензоина 0,15-0,25, 3,5-ди-трет-бутилбензохинон-1,2 0,0013-0,0017, родамин- Ж 0,008-0,012. Экспонирование проводят в две стадии: сначала светом с длинами волн в области 400-450 нм через фотошаблон с рисунком для нижнего слоя, затем светом с длинами волн в области 320-450 нм через фотошаблон с рисунком для верхнего слоя и далее одновременно проявляют оба слоя фоторезиста. 3 ил., 1 табл.

Патент №2021395, изображение 1
Патент №2021395, изображение 2
Патент №2021395, изображение 3

Классификация патента

Код Наименование
МПК C25D 1/00Гальванопластика