Патент №2061786 - Способ нанесения покрытий в вакууме и испаритель вакуумной установки для его осуществления

Использование: изобретение относится к области вакуумной и газоразрядной электроники, в частности, к технологии нанесения тонких пленок, и может быть использовано для выращивания эпитаксиальных слоев в вакууме для модифицирования различных покрытий в процессе их выращивания и для нанесения тонких пленок. Сущность изобретения: в способе после испарения поры формируют в ряд перекрывающих друг друга молекулярных потоков. Поры веществ, имеющих сложные соединения, одновременно с формированием в ряд молекулярных потоков, диссоциируют на составляющие. В испаритель вакуумной установки на выходе тигля 1 соосно введен формирователь 3 молекулярных потоков в виде металлического цилиндра. Внутри него параллельно его продольной оси установлены трубки 7. Его внутренняя полость представляет собой тепловую трубку 8. Формирователь 3 снабжен нагревателем 9. Испаряемое вещество 13 помещают в тигель 1. В камере 10 создают вакуум. Молекулярные потоки формируются формирователем 3. При необходимости, повышая температуру формирователя 3 с помощью тепловых трубок 8 и их нагревателя 9, диссоциируют сложные соединения исходного вещества на составляющие. 2 н.п. ф-лы. 1 з.п.ф-лы. 1 ил.