Патент №2073745 - Способ напуска газа в вакуумную камеру

Изобретение относится к области технологической обработки материалов в вакууме, а более конкретно к способам напуска газа в вакуумную камеру. В основу изобретения положена задача обеспечить равномерность подачи газа по всей поверхности обрабатываемого материала при регулировании потоком газа. Эта задача решается тем, что в качестве пористого материала используют материал с эффективными адсорбционными свойствами, например, цеолит, в стенке, из пористого материала располагают систему охлаждения и систему нагрева. 2 з.п. ф-лы. 1 ил.