Патент №2120273 - Косметическая очистительная маска для ухода за кожей лица "леда-плюс"

Изобретение относится к косметике, а именно к очистительным маскам для ухода за кожей лица. Маска наносится на лицо на короткое время с целью смягчения, укрепления и очищения кожи. Маска включает гелеобразующую основу, мелкодисперсные растительные и/или минеральные сорбенты, биологически активные вещества растительного происхождения, яичный белок, сбалансированный солевой состав раствора Хенкса, аминокислотный витаминный комплекс (ABK) питательной среды для культур клеток животных, например среды Игла, и консервант при следующем соотношении компонентов, мас.%: белок яичный 5,0-20,0, мелкодисперсные растительные и/или минеральные сорбенты 3,0-12,0, сбалансированный солевой состав раствора Хенкса 0,5-3,0, аминокислотный витаминный комплекс (ABK) питательной среды для культур клеток животных, например среды Игла, 0,007-0,05, консервант 0,07-10,0, биологически активные вещества растительного происхождения 6,0-17,0, гелеобразующее вещество остальное. Маска позволяет повысить степень очистки кожи лица без удаления полезных веществ из клеток кожи за счет поверхностной сорбционной очистки и "шлифовки" кожи и осмотического (глубокая очистка) воздействия на клетки кожи, а также обеспечить более физиологичное воздействие косметического средства на клетки кожи. 1 з.п. ф-лы.