Патент №2121193 - Способ изготовления микроострий на поверхности

Изобретение относится к микроэлектронике и предназначено для изготовления проводящих микроострий, которые могут быть использованы, например, в производстве вакуумных интегральных микросхем. Изобретение позволяет улучшить эмиссионные характеристики микроострий при упрощении технологического процесса. Способ включает окисление и травление, которые осуществляют воздействием на поверхность газовым разрядом в скрещенных электрическом и магнитном полях с величиной магнитной индукции, равной 0,005 - 0,07 Тл, в атмосфере чистого кислорода при давлении 1 - 0,05 Па. Одновременно осуществляют непрерывный контроль процесса во избежание прожигания поверхности. 3 з.п. ф-лы.