Патент №2133308 - Испарительный тигель
Изобретение относится к полупроводниковой области техники и может быть использовано в молекулярно-лучевой эпитаксии для снижения плотности дефектов в эпитаксиальных структурах. Сущность изобретения: в испарительном тигле, содержащем объем для испаряемого вещества и закрепленный на его горловине сепарирующий элемент, сепарирующий элемент выполнен в виде вставки с винтовым каналом. Использование изобретения позволяет снизить вероятности попадания остаточных паров вакуумного объема в тигель молекулярного источника без значительного уменьшения проводимости тигля и значительно снизить плотность дефектов в эпитаксиальных структурах. Использование изобретения позволило снизить плотность дефектов в пленке теллурида кадмия с величины 2 103 см-2 до величины, меньшей чем 1 102 см-2. 2 ил.
Классификация патента
| Код | Наименование |
|---|---|
| МПК C23C 14/00 | Покрытие вакуумным испарением, распылением металлов или ионным внедрением материала, образующего покрытие |
| МПК C30B 23/00 | Выращивание монокристаллов конденсацией испаряемого или сублимируемого материала |
| МПК H01L 21/00 | Способы и устройства, специально предназначенные для изготовления или обработки полупроводниковых приборов или приборов на твердом теле или их частей |