Патент №2176540 - Тонкослойный отстойник

Изобретение относится к области очистки от механических примесей технических оборотных и сточных, а также иных жидкостей и может быть использовано в металлургической, нефтяной, угольной, химической промышленности. Отстойник содержит корпус с пакетами наклонных пластин, которые уложены в тонкослойные модули (от 1 до 4). Пакеты заполнены параллельными пластинами, расстояния между которыми уменьшаются от нижнего пакета к верхнему. Пакеты установлены без зазора между ними, и нижние кромки пластин вышележащего пакета касаются верхних кромок пластин нижележащего; каждый вышележащий пакет развернут относительно нижележащего на 90o. Внутренними стенками корпуса и наружными стенками тонкослойных модулей образована реакционная камера. Подача исходной жидкости осуществляется в верхней части корпуса через устройство ввода, которое при необходимости может быть использовано для ввода реагентов (флокулянтов, коагулянтов). К нижней части корпуса присоединен шламонакопитель. Технический результат - повышение эффективности процесса очистки жидкости за счет предотвращения вторичного взмучивания и перегруза последующих ступеней взвешенными веществами, повышение степени использования объема устройства. 5 з.п. ф-лы, 6 ил.