Патент №2316497 - Халькогенидное стекло

Изобретение относится к составам халькогенидных стекол, используемых в микроэлектронике. Халькогенидное стекло содержит GeS 2, NaCl, Ga2S3 и дополнительно In2S3 и GaAs при следующем соотношении компонентов, мас.%: GeS 2 35,0-45,0, NaCl 10,0-15,0, Ga2S 3 15,0-25,0, In2S 3 15,0-25,0, GaAs 5,0-10,0. Технический результат - повышение термической устойчивости халькогенидного стекла. 1 табл.

Классификация патента

Код Наименование
МПК C03C 3/32Составы для изготовления стекла - составы для изготовления стекла, не содержащие оксидов, например двойные или тройные галогенные соединения, сульфиды или нитриды германия, селена или теллура