Патент №2373606 - Фоточувствительная структура

Фоточувствительная структура может быть использована при разработке фотоприемников ИК излучения. Фоточувствительная структура содержит подложку с выполненной на ней варизонной структурой с рабочей областью, в которой расположен рабочий поглощающий слой. В составе рабочей области кроме рабочего поглощающего слоя выполнен предотвращающий введение собственных дефектов слой с возможностью его примыкания к поверхности рабочей области или на расстоянии от нее, или в составе рабочей области выполнена периодическая структура из чередующихся слоев, предотвращающих введение собственных дефектов и рабочих поглощающих, с возможностью примыкания ее к поверхности рабочей области или на расстоянии от нее. Изобретение обеспечивает предельное повышение термической стабильности параметров фоточувствительных слоев структуры, что приводит к снижению деградации фотоэлектрических и электрофизических параметров фоточувствительного элемента. 16 з.п. ф-лы, 2 ил.