Патент №2474094 - Устройство для получения высокочастотного емкостного газового разряда

Устройство для получения высокочастотного емкостного газового разряда относится к плазменной технике и может быть использовано для возбуждения высокочастотного емкостного газового разряда, применяемого для обработки различных изделий высокочастотной низкотемпературной плазмой пониженного давления и в качестве активного элемента газового лазера. Заявленное устройство представляет собой диэлектрическую газонаполненную камеру, вблизи или внутри которой размещены, по меньшей мере, две пары параллельных проволочных электродов, часть которых подключена к ВЧ-генератору, оставшиеся заземлены, при этом подключение электродов к ВЧ-генератору и подключение оставшихся электродов к заземлению осуществлено параллельным способом, причем подключенные к ВЧ-генератору электроды чередуются через один с заземленными электродами. Каждый проволочный электрод выполнен в виде петли и размещен по периметру на внешней стороне диэлектрической газонаполненной камеры. Внутри диэлектрической газонаполненной камеры коаксиально установлен дополнительный проволочный электрод на диэлектрических опорах. Техническим результатом является обеспечение пространственной однородности и устойчивости горения высокочастотного емкостного газового разряда во всем объеме диэлектрической газонаполненной камеры. 3 ил.

Патент №2474094, изображение 1
Патент №2474094, изображение 2
Патент №2474094, изображение 3

Классификация патента

Код Наименование
МПК H05H 1/30Получение плазмы; управление плазмой - с использованием внешних электромагнитных полей, например высокой и сверхвысокой частоты 1/28 имеет преимущество