Патент №2061148 - Способ возведения станции метрополитена глубокого заложения

Изобретение относится к метростроению и касается способа возведения станции метрополитена глубокого заложения. Способ включает предварительную проходку штолен с выполнением в них опор для сводов боковых и среднего тоннелей, монтаж на опорах опорных элементов и проходку и монтаж обделок сводов боковых и среднего тоннелей с опиранием их нижних торцов на опорные элементы с последующей разработкой грунта до уровня подошвы опор и возведение лотковой части станции. Новым является то, что при монтаже опорных элементов на крайних опорах боковых тоннелей монтируют опорные элементы в виде металлических прямолинейных пластин, а на всех остальных промежуточных опорах - опорные элементы в виде металлических пластин ломанного очертания со средним горизонтальным участком и примыкающими к нему под углом наклонным периферийными участками. После этого сначала проходят средний тоннель и монтируют его обделку в направлении от опор к шелыге с опиранием нижних торцов свода на обращенные друг к другу периферийные наклонные участки пластин опор среднего тоннеля. После этого осуществляют проходку боковых тоннелей и возведение их обделок в направлении от опор к шелыгам с опиранием нижних торцов их сводов соответственно на прямолинейные пластины крайних опор боковых тоннелей и обращенные к ним периферийные наклонные участки пластин опор среднего тоннеля. 4 ил.

Патент №2061148, изображение 1
Патент №2061148, изображение 2
Патент №2061148, изображение 3

Классификация патента

Код Наименование
МПК E02D 29/00Подземные и подводные сооружения; подпорные стенки
МПК E21D 13/00Подземные камеры большого объема; способы и устройства для их проходки