Патент №2186616 - Установка и способ термоударной обработки сыпучих материалов

Изобретение относится к химической промышленности и касается установки для термоударной обработки сыпучих материалов, содержащей емкость для исходного материала, нагреватели и привод вращения, при этом она включает вертикальный вал с закрепленной на нем тарелью, установленный в корпусе, регулятор расхода материала, установленный в нижней части емкости для исходного материала, при этом привод вращает вал, имеется система охлаждения-закалки продуктов термоударной обработки, а рабочая поверхность тарели выполнена конической или с кривизной, обеспечивающей расширение кверху. Данная установка дает повышение производительности и уменьшение энергозатрат. 2 с. и 25 з.п. ф-лы, 3 ил.

Патент №2186616, изображение 1
Патент №2186616, изображение 2
Патент №2186616, изображение 3

Классификация патента

Код Наименование
МПК B01J 19/00Химические, физические или физико-химические способы общего назначения; устройства для их проведения
МПК B01J 8/00Химические или физические процессы общего назначения, проводимые в присутствии жидкости или газа и твердых частиц; аппараты для их проведения
МПК B04B 5/00Прочие центрифуги