Патент №2193254 - Откачивающее устройство, предусматривающее применение неиспаряющегося геттера, и способы применения данного геттера

Изобретение относится к устройствам создания сверхвысокого вакуума. Техническим результатом является повышение эффективности откачивающего устройства. Откачивающее устройство предусматривает применение неиспаряющегося геттера для создания сверхглубокого вакуума в камере, внутренняя металлическая поверхность которой покрыта тонким слоем неиспаряющегося геттера, способного поглощать газы, который нанесен в вакууме путем катодного распыления. Способ образования тонкого слоя неиспаряющегося геттера предусматривает следующие один за другим этапы: тонкий слой неиспаряющегося геттера накладывают путем катодного распыления на по меньшей мере наибольшую часть поверхности стенки камеры, соединяют камеру с вакуумной системой, создают вакуум с помощью вакуумной системы, просушивают вакуумную систему при заданной температуре, поддерживая при этом температуру камеры ниже температуры активации неиспаряющегося геттера, заканчивают просушку вакуумной системы и одновременно поднимают температуру камеры до температуры активации, поддерживают эту температуру в течение заранее рассчитанного времени, за которое неиспаряющийся геттер становится чистым, затем понижают температуру до температуры окружающей среды. 2 с. и 3 з.п. ф-лы.