Патент №2413963 - Фотонные микроэлектромеханические системы и структуры

Оптическое устройство содержит подложку, содержащую металл, пассивирующий слой, проводящий слой, диэлектрический слой, первый оптический слой, подвижный второй оптический слой. Пассивирующий слой расположен на подложке и обеспечивает электрическую изоляцию для предохранения других структур, расположенных на подложке, от закорачивания на подложку. Проводящий слой расположен на пассивирующем слое. Диэлектрический слой расположен на проводящем слое. Первый оптический слой является по меньшей мере частично пропускающим и по меньшей мере частично отражающим для падающего света. Подвижный второй оптический слой является по меньшей мере частично отражающим для падающего света, отнесен от первого оптического слоя и расположен между первым оптическим слоем и диэлектрическим слоем. Первая полость задана между вторым оптическим слоем и диэлектрическим слоем. Вторая полость задана между вторым оптическим слоем и первым оптическим слоем. Второй оптический слой перемещается между первым и вторым положениями, модулируя отражательную способность устройства, в ответ на напряжения, прикладываемые между проводящим слоем и вторым оптическим слоем. Технический результат - избирательное поглощение и/или отражение света благодаря использованию оптической интерференции. 5 н. и 26 з.п. ф-лы, 65 ил.