Патент №2485064 - Способ и установка для лазерной обработки поверхности ситалла

Изобретение относится к области обработки поверхности керамических материалов лазерным излучением для получения наноструктурных аморфизированных пленок, преимущественно из ситалла. Способ может применяться для чистовой обработки поверхности деталей, применяемых в электронной технике. Способ лазерной обработки поверхности ситалла включает лазерное облучение ситалловой пластины с предварительным нагревом и последующим поэтапным охлаждением. Ситалловую пластину помещают в замкнутый объем из теплоизолирующего материала, а лазерное облучение производят через оптический фильтр, пропускающий излучение в спектральном интервале длины волны рабочего лазера и задерживающий излучение инфракрасного диапазона волн. Установка для лазерной обработки поверхности ситалла, содержащая CO 2-лазер, оптическую систему с фокусирующей линзой для сканирования пучка по поверхности образца, управляющий компьютер, рабочий стол с нагревателем и образцом, снабженная средствами защиты и охлаждения фокусирующей линзы от температурного воздействия. Установка снабжена камерой из теплоизолирующего материала, в которой размещен нагреватель с образцом, причем между камерой и фокусирующей линзой установлен оптический фильтр, закрывающий образец в замкнутом объеме, пропускающий излучение рабочего лазера и не пропускающий излучение в инфракрасном диапазоне волн. Изобретение обеспечивает повышение качества обработки ситалловых пластин после лазерного облучения и снижение тепловых потерь при лазерном облучении поверхности ситалла. 2 н.п. ф-лы, 4 ил.