Патент №2510735 - Устройство для ионного распыления мишени и/или обработки поверхности объекта и способ его применения

Изобретение относится к области обработки поверхности объекта. Устройство для ионного распыления мишени и/или обработки поверхности объекта содержит кольцевой источник ионов, формирующий ионный пучок, распространяющийся в промежутке между двумя условными вложенными друг в друга сходящимися - в направлении от источника ионов к держателю объекта (мишени) - коническими поверхностями, образующие которых составляют с общей осью конусов разные углы и общее основание которых совпадает с окружностью, ограниченной круговой выходной щелью кольцевого источника ионов. Устройство содержит также держатель объекта или мишени, который может вращаться, наклоняться, терморегулироваться. Расстояние между источником ионов и держателем мишени может меняться по заданной программе, при этом благодаря описанной выше форме ионного пучка меняются область и размеры облучаемой ионами поверхности. Технический результат - повышение равномерности обработки поверхности. 2 н. и 3 з.п. ф-лы, 1 ил.