Патент №2027255 - Устройство для импульсной термической обработки полупроводниковых пластин

Применение: относится к микроэлектронике и может быть использовано при изготовлении интегральных микросхем. Сущность: устройство содержит рабочую камеру с системой трубчатых ламп, подложкодержатель, механизм транспортировки кассеты с пластинами, механизм транспортировки полупроводниковой пластины в рабочую камеру, камеру двусторонней очистки, расположенную перед рабочей камерой. Камера очистки содержит лампы ультрафиолетового излучения, клапаны ввода-вывода газа, а также вакуумное уплотнение, расположенное между рабочей камерой и камерой очистки. Рабочая камера выполнена с кварцевым окном и дополнительно оснащена лампой ультрафиолетового излучения со сферическим отражателем и вакуумным клапаном. 1 з.п. ф-лы, 2 ил.