Патенты — САЙМЕР, ИНК.
Страна - США (US), количество патентов - 8, получены - 1999-2002 , коллектив авторов - 39 человек.
- G06 – Вычисление; счет
- H01 – Основные элементы электрического оборудования
- H05 – Специальные области электротехники, не отнесенные к другим классам
- Система очень узкополосного двухкамерного газоразрядного лазера с высокой частотой следования импульсов
Изобретение относится к электрогазоразрядным лазерам, в частности к узкополосным газоразрядным лазерам с высокой частотой следования импульсов. Конструкция имеет две отдельные разрядные камеры, одна из которых является частью задающего генератора,...
- Система двухкамерного f2 лазера с выбором линии
Изобретение относится к лазерной технике, к двухкамерным узкополосным газоразрядным лазерам, и может быть использовано в качестве источника света для литографии интегральных схем. Предусмотрено две отдельные газоразрядные камеры, одна из которых...
- Лазерный литографический источник света с доставкой пучка
Система очень узкополосного двухкамерного газоразрядного лазера с высокой частотой следования содержит две отдельные разрядные камеры, одна из которых является частью задающего генератора, формирующего очень узкополосный посылаемый пучок, который с...
- Система контроля технологического процесса для лазеров, используемых в литографии
Изобретение относится к системам контроля и, в частности, к системам контроля работы лазеров. Его использование позволяет получить технический результат в виде создания более совершенной системы контроля лазеров для литографии на предприятиях по...
- Мощные газоразрядные лазеры с модулем сужения линии излучения с гелиевой продувкой
Изобретение относится к лазерной технике и может быть использовано в мощных газоразрядных лазерах с устройствами сужения линии излучения на основе дифракционной решетки. Устройство сужения линии излучения содержит дифракционную решетку, задающую...
- Источник излучения на основе плазменного фокуса с улучшенной системой импульсного питания
Изобретение относится к источникам высокоэнергетического ультрафиолетового и рентгеновского излучения. Источник высокоэнергетичных фотонов содержит пару электродов (8), расположенных в вакуумной камере устройства (2) для создания плазменного пинча....
- Узкополосный газоразрядный лазер с газовой добавкой
Изобретение относится к лазерной технике, а именно к эксимерным лазерам с узкой полосой излучения с частотой импульсов 500-2000 Гц. Лазер содержит лазерную камеру, выполненную из материалов, совместимых с фтором, и содержащую два протяженных электрода,...
- Узкополосный эксимерный лазер на фториде криптона (krf) для промышленного применения, имеющий высокую надежность и модульную конструкцию
Изобретение относится к лазерной технике, а именно - к лазерам, используемым для долговременной круглосуточной работы при производстве интегральных микросхем способом литографии. Усовершенствования заключаются в наличии в нем одиночной трубки...