Патент №2476917 - Способ изготовления штампа для наноимпринт литографии

Изобретение относится к микроэлектронике, к способам изготовления штампов для наноимпринт литографии с субмикронными и нанометровыми проектными нормами для использования при изготовлении полупроводниковых устройств. Сущность изобретения: для уменьшения неровности края воспроизводимого субмикронного либо наноразмерного рисунка на штампе и уменьшения стоимости изготовления штампа для наноимпринт литографии, штампы изготавливают на специальных круглых пластинах, имеющих линейные размеры, соответствующие линейным размерам кремниевых пластин, применяемых при изготовлении интегральных схем с аналогичными изготавливаемому штампу топологическими размерами. При этом перенос необходимой топологии на такие пластины осуществляют с использованием изготовленного, с применением прецизионного электронно-лучевого либо ионно-лучевого генератора изображений, шаблона для проекционной литографии с увеличенными в N раз размерами элементов рисунка, по сравнению с рисунком на штампе, и установки для проекционной литографии, уменьшающей в N раз размеры переносимого рисунка и предназначенной для переноса топологии данного уровня на кремниевые пластины. 10 з.п. ф-лы.